采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持干磨、湿磨和低温研磨，适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
最高转速3000rpm，研磨细度可达10微米以下，采用双层冷却夹套设计使常规温升小于10℃，氧化锆拨杆驱动研磨介质实现高效分散研磨。
采用双罐设计实现高通量研磨，振动速度60-1800r/min可调，出料粒度达5~10μm，支持干磨、湿磨及低温研磨，有效保护热敏性材料分子结构。
具备双罐研磨和1-30Hz振动频率调节，支持低温研磨保护热敏材料，出料粒度可达5~10μm，一次可处理10个以上样品且研磨时间仅需1-3分钟。
采用大屏幕触摸屏操作，智能化控制研磨时间和速度，研磨结果高度可重复。双罐设计支持高通量处理，出料粒度可达5~10μm，适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持低温研磨保护热敏材料，一次处理10个以上样品，研磨时间仅需1-3分钟。
采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持低温研磨保护热敏材料，一次处理多个样品且重复性高。
设备可同时完成分散和研磨两道工艺，转速0-1500rpm，研磨量30-100L，采用氧化锆研磨介质和冷却夹套设计，温升小，操作简便。
采用60-1800r/min振动速度，出料粒度可达5~10μm，支持干磨、湿磨及低温研磨，适用于热敏性材料且液氮耗量极少，一次可处理10个以上样品。
具备60-1800r/min振动速度及1-30Hz频率范围，支持干磨、湿磨和低温研磨，可处理进料≤8mm样品至5~10μm粒度，适用于热敏材料且液氮耗量少。
设备采用电动升降和变频调速，转速0-3000转/分钟，配备双层冷却夹套和氧化锆珠研磨介质，实现高效湿法分散研磨，温升小且操作简便。
具备干磨和湿磨双重测试功能，摩擦频率四档可调（21/42/85/106cpm），支持0~99999次自动停机，符合JIS-5071-1等标准要求。
卧式运行防止样品沉底，研磨更均匀；四个工作位可同时处理不同物料；研磨时间仅需5-10分钟，最小出料粒度达0.1μm；具备正反向交替运转、无极调速、定时等多种功能模式。
