单盘式设计集成预磨研磨抛光功能,支持无极调速100-1000r/min和四档调速,压力范围35-150N,配备电磁离合器锁紧和自动清洗系统,操作平稳安全。
采用单片机控制实现二档四速调节,转速范围300至1000rpm,配备冷却水管和磨盘冲洗功能,防漏主轴设计提升轴承寿命,适用于湿磨和多种试样处理。
双盘独立控制,无级调速范围50~1400r/min,可切换旋转方向。采用直流无刷电机,噪音低且扭力强,配备冷却水管和磨盘冲洗功能,防止磨削物沉淀。
设备配备独立控制双盘系统,支持700/900/1400rpm三档转速切换,采用柜式结构便于存放耗材,并集成冷却水管实现湿磨操作,提升制样效率与稳定性。
双盘设计支持研磨抛光独立操作,无级调速范围20~120rpm,采用气动加压和磁性快速换盘结构,配备自动锁紧和出水功能,可同时夹持6个试样实现高效自动制样。
具备双盘独立控制系统,支持三档转速调节,最高达1400rpm。采用柜式结构便于存放耗材,配备冷却水管可实现湿磨操作,适用于多种试样制备工序。
可供双人同时操作,配备湿磨用供水系统,传动平稳且噪音小,抛盘直径230mm,转速可选400r/min或500r/min,操作维护简便。
采用伺服电机驱动,磨抛盘直径230mm,支持无级调速50-1000r/min。具备磁性盘快速更换、磨头电磁锁自动落锁和十种程序存储功能,提升操作安全性和适应性。
采用单片机控制,具备50~1400r/min无级调速和四档调速,可切换旋转方向;直流无刷电机提供强大扭力,防漏设计延长轴承寿命,配备冷却和冲洗功能。
采用双罐研磨设计,振动速度60-1800r/min,出料粒度可达5~10μm,支持干磨、湿磨和低温研磨,适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
采用双罐设计实现高通量研磨,振动速度60-1800r/min可调,出料粒度达5~10μm,支持干磨、湿磨及低温研磨,有效保护热敏性材料分子结构。