仪器商品分类

    铜粉球磨机

    铜粉球磨机通过筒体旋转带动研磨介质碰撞摩擦,将铜料粉碎细化。用于控制铜粉粒度分布,提升均匀性。适用于电子导电材料、金属涂料等领域的铜粉制备。
    仪器选型
    选择时考虑铜料初始粒度与目标细度匹配设备规格。按产能需求确定筒体容积,根据物料特性选用氧化锆或不锈钢研磨介质。注意冷却系统防止氧化,防爆设计适用于易燃工艺。

    检测仪器

    采用360°翻滚结构结合行星盘和球磨罐整体运动,球磨罐转速达850r/min,最小出料粒度可达0.1μm,支持干磨、湿磨等多种研磨方式,并具备可调速翻滚和间歇运行功能。

    ¥ 14291.00

    采用360°翻滚研磨方式,球磨罐转速达1100r/min,出料粒度最小0.1μm,支持干湿磨及多种材质罐体,研磨均匀高效。

    ¥ 13382.00

    采用360°翻滚结构结合行星盘和球磨罐整体运动,实现更强烈的摩擦和撞击能量;最大处理量4000ml,最小出料粒度可达0.1μm;支持干磨、湿磨等多种研磨方式,提高样品均匀度和效率。

    ¥ 14745.00

    采用360°翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量16L,支持干磨湿磨真空研磨,可达到0.1μm出料粒度,具备多种球磨罐材质和研磨模式选择。

    ¥ 35473.00

    采用360°翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量10L,最小出料粒度0.1μm,支持干磨湿磨等多种方式,可配置多种材质球磨罐,操作简便且具断电保护功能。

    ¥ 24564.00

    具备10L处理量和0.1μm出料精度,采用四工位设计和580rpm转速,支持干湿磨及真空研磨,配置600CFM散热系统和多种材质球磨罐可选,研磨一致性良好。

    ¥ 15655.00

    最大进料尺寸2mm,出料粒度最小0.1um,支持干磨湿磨真空研磨等多种方式,配置多种材质球磨罐,可控制转速和时间保证研磨重复性。

    ¥ 43836.00

    采用360°翻滚研磨结构,结合立式和卧式球磨机特点,最大处理量6000ml,最小出料粒度0.1μm,支持干磨、湿磨等多种研磨方式,操作简便且具备断电保护功能。

    ¥ 15200.00

    采用360度翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量80L,最小出料粒度0.1μm,支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式,配置多种材质球磨罐适应不同样品。

    ¥ 89291.00

    采用核心降噪技术降低运转噪音,行星盘与球磨罐转速比1:2产生强大粉碎力,最大处理量6000ml且出料细度达0.1μm,支持干湿磨等多种研磨方式。

    ¥ 11564.00

    设备采用组合式结构便于维护,配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。最大处理量60L,最小出料粒度0.1μm,支持四种球磨罐工位和多种研磨模式。

    ¥ 63836.00

    采用铜板平台和长寿命发热管,PID智能控温精度±1℃,快速加热至200℃仅需10分钟,适用于多种树脂材料的胶化时间测定。

    ¥ 2700.00

    具备8L处理量和0.1μm出料粒度,采用四工位设计和580rpm转速,支持干磨、湿磨及真空研磨,配置600CFM散热系统和多种球磨罐材质选择。

    ¥ 14745.00

    采用国标06Cr19Ni10不锈钢精密加工,耐高温达300℃,耐低温至-100℃,硬度≤187HB,具备耐酸碱特性,研磨时防沉底、抗粘黏,适用于干磨和湿磨。

    ¥ 500.00

    采用360°翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量12L,最小出料粒度0.1μm,支持多种研磨方式和材质,操作简便且具备断电保护功能。

    ¥ 25655.00