采用行星式运动原理，研磨时间仅需15-20分钟，出料粒度达0.1微米，支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式，配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。
具备8L处理量和0.1μm出料粒度，采用四工位设计和580rpm转速，支持干磨、湿磨及真空研磨，配置600CFM散热系统和多种球磨罐材质选择。
最大进料尺寸2mm，出料粒度最小0.1um，支持干磨湿磨真空研磨等多种方式，配置多种材质球磨罐，可控制转速和时间保证研磨重复性。
最高转速达900rpm，出料粒度最小0.1um，具备正反向交替运行和间歇式研磨功能，支持真空研磨和惰性气体保护，十多种材质研磨罐确保无污染。
具备10L处理量和0.1μm出料精度，采用四工位设计和580rpm转速，支持干湿磨及真空研磨，配置600CFM散热系统和多种材质球磨罐可选，研磨一致性良好。
具备12L最大处理量和四工位设计，支持干磨、湿磨及真空研磨多种方式，最小出料粒度达0.1μm，采用变频器与电动机驱动，确保研磨一致性和高效散热。
采用四工位设计，最大处理量达80L，出料粒度最小0.1μm，支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式，组合式结构便于拆装维护，配置散热系统保证稳定运行。
采用360度翻滚结构结合行星盘旋转，最大处理量80L，最小出料粒度0.1μm，支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式，配置多种材质球磨罐适应不同样品。
采用360°翻滚研磨方式，球磨罐转速达1100rpm，出料粒度最小0.1μm，支持干湿磨及多种材质罐体，研磨均匀高效。
设备采用组合式结构便于维护，配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。最大处理量60L，最小出料粒度0.1μm，支持四种球磨罐工位和多种研磨模式。
采用四工位设计，最大处理量达40L，最小出料粒度0.1μm；支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式，配置200CFM散热系统和低重心结构，确保运行稳定。
采用核心降噪技术，振动小噪音低；最大处理量4000ml，出料粒度达0.1μm；支持干磨湿磨真空磨等多种研磨方式，操作简单维护方便。
采用360度翻滚结构结合行星盘运动，最大处理量40L，支持干磨湿磨真空研磨等多种方式，可达到0.1μm出料粒度，提升研磨均匀性和效率。
集分散和砂磨功能于一体，在单个容器内完成两种工序，调速范围130~3000rpm，研磨篮尺寸φ80x60mm，效率高且易清洗。
