消解数量达64孔，控温范围RT+~400℃，采用高纯石墨+PFA涂层加热方式，监测精度±0.5℃，适用于多种样品前处理，支持微波消解预处理和赶酸。
采用高纯石墨PFA涂层加热方式，控温范围RT+~400℃，监测精度±0.5℃，消解数量20孔，适用于多种样品前处理，可配套原子吸收等分析仪器。
采用石墨电极减少极化效应，自动温度补偿确保精度，测量范围EC 0-3999μS/cm、TDS 0-2000ppm，解析度达1μS/cm，适用于恶劣环境。
控温精度达±0.1℃，采用模糊PID控制技术，具有超温报警和温度自整定功能，加热材质为高纯石墨，面板尺寸600*400mm。
控温精度±0.1℃，温度范围RT+~450℃，采用模糊PID控制实现快速稳定和超调小，具备超温报警及自整定功能，加热材质为高纯石墨。
PID微芯片控制实现±0.5℃控温精度，环绕加热确保孔间温差≤±1℃，高纯石墨加热材料耐酸碱腐蚀，双层隔热设计提升安全性和效率。
采用模糊PID控温技术，温度超调小且稳定时间快；控温精度达±0.1℃，面板尺寸600*400mm；具备超温报警和自整定功能，确保实验安全与准确性。
转速范围8000-28000rpm，最大处理粘度3000cp，采用高速转子产生强烈机械剪切和液力作用，实现瞬间均匀分散乳化，适用于多种物料处理。
采用660rpm转速和16mm上下振幅，实现高效分散且无需清洗，夹持机构支持多种容器规格，底部减震弹簧确保稳定运行。
转速范围8000-28000rpm，最大线速度27m/s，通过机械剪切和液力作用实现高效分散，适用于多种粘度物料处理。
