总研磨容积100L,最大可配置4个25L球磨罐;具备干磨、湿磨、真空磨等多种研磨方式;采用行星式运动原理,磨球高速碰撞摩擦物料;核心部件选用优质变频器和电动机,性能稳定耐用。
具备8L处理量和0.1μm出料粒度,采用四工位设计和580rpm转速,支持干磨、湿磨及真空研磨,配置600CFM散热系统和多种球磨罐材质选择。
具备10L处理量和0.1μm出料精度,采用四工位设计和580rpm转速,支持干湿磨及真空研磨,配置600CFM散热系统和多种材质球磨罐可选,研磨一致性良好。
最大进料尺寸2mm,出料粒度最小0.1um,支持干磨湿磨真空研磨等多种方式,配置多种材质球磨罐,可控制转速和时间保证研磨重复性。
该设备集搅拌、分散、研磨功能于一体,电机功率750W,调速范围60~8000rpm,能处理粘度达100000mPa.s的物料,通过高速旋转产生强剪切力实现高效混合分散。
最高转速达900r/min,出料粒度最小0.1um,具备正反向交替运行和间歇式研磨功能,支持真空研磨和惰性气体保护,十多种材质研磨罐确保无污染。
采用360度翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量80L,最小出料粒度0.1μm,支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式,配置多种材质球磨罐适应不同样品。
采用行星式运动原理,研磨时间仅需15-20分钟,出料粒度达0.1微米;支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式,配备四工位设计,转速800rpm,适用各类样品特性。
采用无刷电机实现0-8000rpm变频调速,配备不锈钢分散盘和研磨轮,通过液力剪切和高频机械效应实现高效混合分散,最大处理粘度达20000cp。
转速范围0~20000rpm宽幅可调,配备高速串激电机和稳定硅控系统,集成光电测速确保读数准确,结构紧凑操作便捷。
采用大屏幕触摸屏操作,智能化控制研磨时间和速度,研磨结果高度可重复。双罐设计支持高通量处理,出料粒度可达5~10μm,适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
采用单片机控制实现二档四速调节,转速范围300至1000rpm,配备冷却水管和磨盘冲洗功能,防漏主轴设计提升轴承寿命,适用于湿磨和多种试样处理。
采用行星式运动原理,研磨时间仅需15-20分钟,出料粒度达0.1微米,支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式,配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。
具备四个工作位可同时研磨不同物料,转速达1100rpm,出料粒度最小0.1μm,支持正反向交替运转和无极调速功能,研磨一致性高且操作安全便捷。
具备0~10000rpm宽调速范围和280mm升降行程,采用变频机电运行安静噪音小,支持高速分散、搅拌和砂磨多种功能,适用于0~2L处理量。