仪器商品分类

    行星式研磨分散机

    行星式研磨分散机通过公转与自转的复合运动,使研磨介质在容器内产生涡流与剪切力。物料在碰撞、挤压作用下被粉碎和混合,适用于涂料、油墨等行业的纳米级分散与研磨作业。

    检测仪器

    采用行星式运动原理,研磨时间仅需15-20分钟,出料粒度达0.1微米,支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式,配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。

    ¥ 9291.00

    采用360度翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量80L,最小出料粒度0.1μm,支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式,配置多种材质球磨罐适应不同样品。

    ¥ 89291.00

    总研磨容积100L,最大可配置4个25L球磨罐;具备干磨、湿磨、真空磨等多种研磨方式;采用行星式运动原理,磨球高速碰撞摩擦物料;核心部件选用优质变频器和电动机,性能稳定耐用。

    ¥ 72927.00

    采用360度翻滚结构结合行星盘运动,最大处理量40L,支持干磨湿磨真空研磨等多种方式,可达到0.1μm出料粒度,提升研磨均匀性和效率。

    ¥ 52927.00

    采用行星式运动原理,研磨出料粒度可达0.1μm,支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式,具备四种工位和800rpm转速,操作安全稳定。

    ¥ 11109.00

    采用360度翻滚结构结合行星盘运动,最大处理量60L,支持干磨、湿磨等多种研磨方式,可达到0.1μm最小出料粒度,提升样品均匀性和效率。

    ¥ 80200.00

    采用行星式运动原理,研磨时间仅需15-20分钟,出料粒度达0.1微米;支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式,配备四工位设计,转速800rpm,适用各类样品特性。

    ¥ 8836.00

    采用行星式运动原理,研磨时间仅需15-20分钟,出料粒度可达0.1微米,支持干磨、湿磨等多种研磨方式,操作简单且维护方便。

    ¥ 8836.00

    具备8L处理量和0.1μm出料粒度,采用四工位设计和580rpm转速,支持干磨、湿磨及真空研磨,配置600CFM散热系统和多种球磨罐材质选择。

    ¥ 14745.00

    具备10L处理量和0.1μm出料精度,采用四工位设计和580rpm转速,支持干湿磨及真空研磨,配置600CFM散热系统和多种材质球磨罐可选,研磨一致性良好。

    ¥ 15655.00

    最大进料尺寸2mm,出料粒度最小0.1um,支持干磨湿磨真空研磨等多种方式,配置多种材质球磨罐,可控制转速和时间保证研磨重复性。

    ¥ 43836.00

    采用360°翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量16L,支持干磨湿磨真空研磨,可达到0.1μm出料粒度,具备多种球磨罐材质和研磨模式选择。

    ¥ 35473.00

    具备12L最大处理量和四工位设计,支持干磨、湿磨及真空研磨多种方式,最小出料粒度达0.1μm,采用变频器与电动机驱动,确保研磨一致性和高效散热。

    ¥ 16109.00

    集研磨、分散、搅拌功能于一体,采用电子调速线路,数字显示转速,电机功率400W,升降行程200mm,适用于多种实验需求。

    ¥ 3700.00

    最高转速达900r/min,出料粒度最小0.1um,具备正反向交替运行和间歇式研磨功能,支持真空研磨和惰性气体保护,十多种材质研磨罐确保无污染。

    ¥ 13609.00