采用360°翻滚研磨方式，球磨罐转速达1100r/min，出料粒度最小0.1μm，支持干湿磨及多种材质罐体，研磨均匀高效。
采用360度翻滚结构结合行星盘旋转，最大处理量80L，最小出料粒度0.1μm，支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式，配置多种材质球磨罐适应不同样品。
最大进料尺寸2mm，出料粒度最小0.1um，支持干磨湿磨真空研磨等多种方式，配置多种材质球磨罐，可控制转速和时间保证研磨重复性。
采用360°翻滚结构结合行星盘和球磨罐整体运动，球磨罐转速达850r/min，最小出料粒度可达0.1μm，支持干磨、湿磨等多种研磨方式，并具备可调速翻滚和间歇运行功能。
具备10L处理量和0.1μm出料精度，采用四工位设计和580rpm转速，支持干湿磨及真空研磨，配置600CFM散热系统和多种材质球磨罐可选，研磨一致性良好。
设备采用组合式结构便于维护，配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。最大处理量60L，最小出料粒度0.1μm，支持四种球磨罐工位和多种研磨模式。
采用核心降噪技术降低运转噪音，行星盘与球磨罐转速比1:2产生强大粉碎力，最大处理量6000ml且出料细度达0.1μm，支持干湿磨等多种研磨方式。
总研磨容积100L，最大可配置4个25L球磨罐；具备干磨、湿磨、真空磨等多种研磨方式；采用行星式运动原理，磨球高速碰撞摩擦物料；核心部件选用优质变频器和电动机，性能稳定耐用。
采用360°翻滚结构结合行星盘旋转，最大处理量16L，支持干磨湿磨真空研磨，可达到0.1μm出料粒度，具备多种球磨罐材质和研磨模式选择。
采用360°翻滚结构结合行星盘和球磨罐整体运动，实现更强烈的摩擦和撞击能量；最大处理量4000ml，最小出料粒度可达0.1μm；支持干磨、湿磨等多种研磨方式，提高样品均匀度和效率。
采用360°翻滚结构结合行星盘旋转，最大处理量10L，最小出料粒度0.1μm，支持干磨湿磨等多种方式，可配置多种材质球磨罐，操作简便且具断电保护功能。
设备最大处理量达100L，最小出料粒度0.1μm，支持干磨湿磨真空研磨等多种方式，配备多种材质球磨罐满足不同物料需求。
测量范围0.23 nm g/L至23 g/L，温度补偿5~50℃，适用于高纯水及工业排水钠离子浓度测定，重复性误差不超过0.03pNa。
