上胶涂布机

采用470nm波长和双侧LED光源照射，配备琥珀色滤光片和105*163mm切胶区域，可实现精准的荧光样品分离操作。

涂膜厚度22.9μm，涂布宽度30cm，采用耐磨不锈钢材质，成型式工艺，适用于低粘度胶水和热敏胶实验涂布。

挤压式生产工艺确保涂膜均匀，涂膜厚度22.9μm，涂布宽度300mm，适合低粘度胶水实验，材质耐磨不锈钢延长使用寿命。

采用双侧LED光源和400nm波长，配备琥珀色滤光片，切胶区域达105*163mm，便于精确分离荧光标记的核酸蛋白样品。

采用365nm波长双侧LED光源，配备琥珀色滤光片，切胶区域达105*163mm，可清晰观察荧光并精确分离目标区域。

采用浸涂方式配合双辊挤压结构，涂布厚度0.3-10mm可调，机械速度1.2m/min可慢速调节，内置胶液循环系统确保涂布均匀性。

K形齿槽底部设计，齿间距较大，适合高粘度涂料，湿膜厚度300μm，流平性好，适用于胶水粘度较大的应用场景。

采用K形齿槽设计，齿间距较大，适用于高粘度涂料，湿膜厚度100μm，流平性好，齿槽底部更宽，适合胶水等粘度较大的材料涂布。

采用K形齿槽设计，齿间距较大，适用于高粘度涂料，湿膜厚度250μm，流平性好，齿槽底部更宽，适合胶水粘度较大的应用。

采用K形状齿槽设计，齿间距较大，适用于高粘度涂料，流平性优异，湿膜厚度80μm，涂布宽度300mm，适合胶水粘度大的应用场景。

采用K形齿槽设计，齿间距较大，适用于高粘度涂料，湿膜厚度150μm，流平性好，齿槽底部更宽，适合胶水粘度较大的应用场景。

采用双柱对角支撑结构便于拆洗，配备五层过滤网有效过滤杂质，配置回流缓冲系统消除气泡，恒温油箱保持流量稳定。

采用K形齿槽底部设计，齿间距较大，适用于高粘度涂料，湿膜厚度80μm，流平性好，适合胶水粘度较大的应用场景。

采用K形状齿槽，齿间距大，适用于高粘度涂料，流平性好，湿膜厚度80μm，齿槽底部更宽，适合胶水粘度大的应用。

K形齿槽结构设计，齿间距较大，适用于高粘度涂料，湿膜厚度200μm，流平性表现优异，适合胶水等粘稠材料涂布。