采用高纯石墨PFA涂层加热方式，控温范围RT+~400℃，监测精度±0.5℃，消解数量20孔，适用于多种样品前处理，可配套原子吸收等分析仪器。
采用高纯石墨+PFA涂层加热方式，控温精度±0.5℃，消解数量25孔，适用于微波消解预处理和赶酸处理，配套多种分析仪器使用。
消解数量达64孔，控温范围RT+~400℃，采用高纯石墨+PFA涂层加热方式，监测精度±0.5℃，适用于多种样品前处理，支持微波消解预处理和赶酸。
消解数量达36孔，控温范围RT+~400℃，采用高纯石墨+PFA涂层加热方式，监测精度±0.5℃，适用于多种样品前处理需求。
仪器采用PID微芯片控温技术，控温精度±0.5℃，孔间温差≤±1℃，环绕加热确保同批次样品消解一致，配备异常报警和双层隔热系统。
PID微芯片控制实现±0.5℃控温精度，环绕加热确保孔间温差≤±1℃，高纯石墨加热材料耐酸碱腐蚀，双层隔热设计提升安全性和效率。
采用PID微芯片控温技术，控温精度±0.5℃，孔间温差≤±1℃@100℃，环绕加热确保消解效果一致，双层隔热设计安全高效。
采用耐热耐腐蚀材质，可同时消解25个样品，温度稳定性达±0.5℃，支持0-180分钟定时和持续消解，具备过热保护和温度报警功能。
采用石墨电极减少极化效应，自动温度补偿确保精度，测量范围EC 0-3999μS/cm、TDS 0-2000ppm，解析度达1μS/cm，适用于恶劣环境。
消解与测定分开设计不影响精度，15分钟完成COD消解，可保存30条标准曲线和199组数据，支持4-16个水样批处理，采用IP65防水防尘设计。
采用10万小时长寿命进口光源，配备独立PID控温消解系统，温度范围室温至180℃，光学稳定性达0.002A/20min，支持数据存储和传输。
