采用双罐研磨设计,振动速度60-1800r/min,出料粒度可达5~10μm,支持干磨、湿磨和低温研磨,适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
最高转速3000rpm,研磨细度可达10微米以下,采用双层冷却夹套设计使常规温升小于10℃,氧化锆拨杆驱动研磨介质实现高效分散研磨。
采用双罐设计实现高通量研磨,振动速度60-1800r/min可调,出料粒度达5~10μm,支持干磨、湿磨及低温研磨,有效保护热敏性材料分子结构。
具备双罐研磨和1-30Hz振动频率调节,支持低温研磨保护热敏材料,出料粒度可达5~10μm,一次可处理10个以上样品且研磨时间仅需1-3分钟。
采用大屏幕触摸屏操作,智能化控制研磨时间和速度,研磨结果高度可重复。双罐设计支持高通量处理,出料粒度可达5~10μm,适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
采用双罐研磨设计,振动速度60-1800r/min,出料粒度可达5~10μm,支持低温研磨保护热敏材料,一次处理10个以上样品,研磨时间仅需1-3分钟。
采用双罐研磨设计,振动速度60-1800r/min,出料粒度可达5~10μm,支持低温研磨保护热敏材料,一次处理多个样品且重复性高。
设备可同时完成分散和研磨两道工艺,转速0-1500rpm,研磨量30-100L,采用氧化锆研磨介质和冷却夹套设计,温升小,操作简便。
采用变频电机实现0~7500rpm无级调速,配备分散叶轮与砂磨叶盘,双轴恒力升降系统行程200mm,可适应不同实验需求并计算物料反应关系。
采用60-1800r/min振动速度,出料粒度可达5~10μm,支持干磨、湿磨及低温研磨,适用于热敏性材料且液氮耗量极少,一次可处理10个以上样品。
具备60-1800r/min振动速度及1-30Hz频率范围,支持干磨、湿磨和低温研磨,可处理进料≤8mm样品至5~10μm粒度,适用于热敏材料且液氮耗量少。
设备采用电动升降和变频调速,转速0-3000转/分钟,配备双层冷却夹套和氧化锆珠研磨介质,实现高效湿法分散研磨,温升小且操作简便。