具备干磨和湿磨双重测试功能，摩擦频率四档可调（21/42/85/106cpm），支持0~99999次自动停机，符合JIS-5071-1等标准要求。
采用360°翻滚结构结合行星盘旋转，最大处理量16L，支持干磨湿磨真空研磨，可达到0.1μm出料粒度，具备多种球磨罐材质和研磨模式选择。
具备8L处理量和0.1μm出料粒度，采用四工位设计和580rpm转速，支持干磨、湿磨及真空研磨，配置600CFM散热系统和多种球磨罐材质选择。
具备10L处理量和0.1μm出料精度，采用四工位设计和580rpm转速，支持干湿磨及真空研磨，配置600CFM散热系统和多种材质球磨罐可选，研磨一致性良好。
具备12L最大处理量和四工位设计，支持干磨、湿磨及真空研磨多种方式，最小出料粒度达0.1μm，采用变频器与电动机驱动，确保研磨一致性和高效散热。
具备双罐研磨和1-30Hz振动频率调节，支持低温研磨保护热敏材料，出料粒度可达5~10μm，一次可处理10个以上样品且研磨时间仅需1-3分钟。
采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持干磨、湿磨和低温研磨，适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
采用行星式运动原理，研磨时间仅需15-20分钟，出料粒度达0.1微米，支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式，配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。
采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持低温研磨保护热敏材料，一次处理10个以上样品，研磨时间仅需1-3分钟。
采用双罐设计实现高通量研磨，振动速度60-1800r/min可调，出料粒度达5~10μm，支持干磨、湿磨及低温研磨，有效保护热敏性材料分子结构。
采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持低温研磨保护热敏材料，一次处理多个样品且重复性高。
采用360°翻滚结构结合行星盘旋转，最大处理量12L，最小出料粒度0.1μm，支持多种研磨方式和材质，操作简便且具备断电保护功能。
采用四工位设计，最大处理量达80L，出料粒度最小0.1μm，支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式，组合式结构便于拆装维护，配置散热系统保证稳定运行。
采用60-1800r/min振动速度，出料粒度可达5~10μm，支持干磨、湿磨及低温研磨，适用于热敏性材料且液氮耗量极少，一次可处理10个以上样品。
