金相试样抛光机

抛盘直径230mm，转速900r/min，传动平稳噪音低，操作维护方便，适用于多种材料抛光需求。

抛盘直径230mm，转速900r/min，传动平稳且噪音小，操作维护便捷，适用于多种材料抛光要求。

双盘独立控制可供双人同时操作，抛盘直径230mm，转速900r/min，传动平稳噪音小，操作维护方便。

双盘独立控制可供双人同时操作，抛盘直径230mm，转速900r/min，传动平稳噪音小，操作维护方便，适用于多种材料抛光要求。

具备60V直流电压和25A电流输出，满足大面积样品需求；配备电解液循环和冷却装置，确保抛光效果一致性和稳定性。

双盘独立操作，转速分别为700r/min和900r/min，配备抛光用供水系统和抽屉式积污匣，传动平稳噪音小，抛盘直径230mm适用于多种材料。

双盘独立操作可供双人同时使用，抛盘直径230mm，配备抛光供水系统和抽屉式积污匣，传动平稳且噪音低。

双盘系统独立控制研磨抛光，无级调速范围50~1400rpm，柜式结构便于存放耗材，配备冷却水管支持湿磨，适用于多种试样处理工序。

双盘独立控制可供双人同时操作，传动平稳噪音小，抛盘直径230mm，转速650r/min或800r/min可选，操作维护方便。

双盘独立操作，转速50~1400r/min无级调速，抛盘直径230mm，配备供水系统和抽屉式积污匣，传动平稳噪音小。

单盘式设计集成预磨研磨抛光功能，支持无极调速100-1000r/min和四档调速，压力范围35-150N，配备电磁离合器锁紧和自动清洗系统，操作平稳安全。

采用伺服电机提供750W和400W动力，支持50~1000r/min无级调速和四档调速，具备双盘设计、磨头电磁锁和十种程序存储功能。

可供双人同时操作，配备湿磨用供水系统，传动平稳且噪音小，抛盘直径230mm，转速可选400r/min或500r/min，操作维护简便。

采用水平振动技术，振动频率45-200Hz可调，抛盘直径300mm，可一次处理多个试样并自动完成抛光过程。

双盘设计支持研磨抛光独立操作，无级调速范围20~120rpm，采用气动加压和磁性快速换盘结构，配备自动锁紧和出水功能，可同时夹持6个试样实现高效自动制样。