具备透反射双光学路径,支持360度旋转工作台和6'游标精度,无需样品染色即可实现高对比度晶体结构观察,配备无限远光学系统和四孔物镜转换器。
采用无限远光学系统,配置无应力平场物镜,微动格值达2μm,旋转载物台带360°刻度,支持三目观察与显微摄影,工作台垂直行程30mm。
支持透反射双光学路径观察,配备9.7寸平板电脑成像系统,提供高对比度图像显示,无需样品特殊处理即可清晰呈现表面形貌与结构特征。
具备透反射两种照明型式,支持明场和偏光观察;配备500万像素数字CMOS摄像机,实现自动对焦和实时视频录制;放大倍数40X-1600X,采用无限远光学系统。
配备无限远光学系统和500万像素CMOS摄像头,支持单偏光、正交偏光及锥光观察,转换器四孔设计,聚光镜数值孔径1.25,满足高精度晶体结构研究需求。
采用全金属钣金支架结构,配备36W×4支反射灯管和36W×4支透射灯管,显色指数CRI≥95,钢化玻璃加亚克力匀光板使光照均匀不刺眼,带滚轮和可调节支撑地脚。
全金属材质结构坚固耐用,配备可旋转反射板和带滚轮底脚便于调整移动;采用Graphica进口灯管,显色指数CRI≥95,反射和透射各4支36W灯管确保均匀照明。
采用漫透射光路设计,光密度测量范围0.00-6.00 OD,透光率精度±2%,可同时测量透光率、绝对光密度、相对光密度和网点面积率。
采用0°照射漫反射接收原理,重复性≤0.3,示值误差±1.0,适用于白色和浅色漆遮盖力测定,操作简便便携。