仪器商品分类

    盘片式研磨机

    盘片式研磨机通过两个平行圆盘相对旋转产生剪切力,将物料在盘间狭缝中挤压破碎。用于涂料、油墨等行业中固体颗粒的湿法超细研磨,能使物料粒径达到微米级并改善分散性。
    仪器选型
    选择时考虑物料硬度与粘度匹配盘片材质,按产能需求确定电机功率与研磨腔容积,根据目标粒径调整盘片间隙,注意冷却系统与密封结构适配生产工艺条件。

    术语

    检测仪器

    双盘独立控制可供双人同时操作,抛盘直径230mm,转速900r/min,传动平稳噪音小,操作维护方便,适用于多种材料抛光要求。

    ¥ 2550.00

    双盘独立操作可供双人同时使用,抛盘直径230mm,配备抛光供水系统和抽屉式积污匣,传动平稳且噪音低。

    ¥ 3080.00

    双盘独立控制可供双人同时操作,抛盘直径230mm,转速900r/min,传动平稳噪音小,操作维护方便。

    ¥ 2550.00

    双盘独立控制可供双人同时操作,传动平稳噪音小,抛盘直径230mm,转速650r/min或800r/min可选,操作维护方便。

    ¥ 3560.00

    双盘独立操作,转速分别为700r/min和900r/min,配备抛光用供水系统和抽屉式积污匣,传动平稳噪音小,抛盘直径230mm适用于多种材料。

    ¥ 4050.00

    双盘独立操作,转速50~1400r/min无级调速,抛盘直径230mm,配备供水系统和抽屉式积污匣,传动平稳噪音小。

    双盘系统独立控制研磨抛光,无级调速范围50~1400rpm,柜式结构便于存放耗材,配备冷却水管支持湿磨,适用于多种试样处理工序。

    抛盘直径230mm,转速900r/min,传动平稳且噪音小,操作维护便捷,适用于多种材料抛光要求。

    ¥ 1250.00

    单盘式设计集成预磨研磨抛光功能,支持无极调速100-1000r/min和四档调速,压力范围35-150N,配备电磁离合器锁紧和自动清洗系统,操作平稳安全。

    具备60V直流电压和25A电流输出,满足大面积样品需求;配备电解液循环和冷却装置,确保抛光效果一致性和稳定性。

    采用单片机控制,双盘双速设计,转速500/1000rpm,配备冷却水管和磨盘底部冲洗功能,防腐蚀机身和防漏主轴确保设备耐用性。

    双盘独立控制,无级调速范围50~1400r/min,可切换旋转方向。采用直流无刷电机,噪音低且扭力强,配备冷却水管和磨盘冲洗功能,防止磨削物沉淀。

    双盘设计支持研磨抛光独立操作,无级调速范围20~120rpm,采用气动加压和磁性快速换盘结构,配备自动锁紧和出水功能,可同时夹持6个试样实现高效自动制样。

    抛盘直径230mm,转速900r/min,传动平稳噪音低,操作维护方便,适用于多种材料抛光需求。

    ¥ 1600.00

    采用水平振动技术,振动频率45-200Hz可调,抛盘直径300mm,可一次处理多个试样并自动完成抛光过程。