采用无限远光学系统,支持明场、荧光、相衬、偏光多种观察模式;配备六孔转换器带DIC插槽和100W汞灯光源,提供高分辨率图像;自动对焦系统保持样本焦平面稳定。
具备透反射双光学路径,支持360度旋转工作台和6'游标精度,无需样品染色即可实现高对比度晶体结构观察,配备无限远光学系统和四孔物镜转换器。
采用无限远光学系统,配置长工作距离物镜如10X0.25工作距离4.3mm,旋转摆入摆出式聚光系统可对高培养皿进行无沾染观察,模块化荧光系统便于调整。
采用粗微动同轴调焦机构,微动格值达2μm,配备100W高压汞灯荧光落射照明和6V 20W卤素灯透射照明,支持B激发光波段420~485nm和G激发光波段460~550nm。
具备透反射两种照明型式,支持明场和偏光观察;配备500万像素数字CMOS摄像机,实现自动对焦和实时视频录制;放大倍数40X-1600X,采用无限远光学系统。
支持透反射双光学路径观察,配备9.7寸平板电脑成像系统,提供高对比度图像显示,无需样品特殊处理即可清晰呈现表面形貌与结构特征。
该设备支持透射、反射及透反射三种照明方式,配置无应力平场物镜与大视野目镜,微动格值2μm,工作台垂直行程达30mm,适用于多种观察模式。
采用无限远光学系统,支持多种观察方式,配备六孔物镜转换器和N.A.1.1阿贝聚光镜,放大倍数40X-1000X,操作简便灵活。
配备无限远光学系统和500万像素CMOS摄像头,支持单偏光、正交偏光及锥光观察,转换器四孔设计,聚光镜数值孔径1.25,满足高精度晶体结构研究需求。