双盘设计可独立操作研磨抛光，无级调速范围20~120rpm，支持正反转；采用气动加压和磁性快速换盘，试样夹持达6个，提高制样一致性。
双盘设计支持研磨抛光独立操作，无级调速范围20~120rpm，采用气动加压和磁性快速换盘结构，配备自动锁紧和出水功能，可同时夹持6个试样实现高效自动制样。
采用单片机控制实现自动研磨，支持6个试样同时夹持，磨盘转速100~1000rpm无级调节，具备单点气动加压0~50N和中心加压0~160N，磁性底盘设计便于快速更换。
采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持干磨、湿磨和低温研磨，适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
采用大屏幕触摸屏操作，智能化控制研磨时间和速度，研磨结果高度可重复。双罐设计支持高通量处理，出料粒度可达5~10μm，适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
具备双罐研磨和1-30Hz振动频率调节，支持低温研磨保护热敏材料，出料粒度可达5~10μm，一次可处理10个以上样品且研磨时间仅需1-3分钟。
采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持低温研磨保护热敏材料，一次处理10个以上样品，研磨时间仅需1-3分钟。
采用双罐设计实现高通量研磨，振动速度60-1800r/min可调，出料粒度达5~10μm，支持干磨、湿磨及低温研磨，有效保护热敏性材料分子结构。
采用60-1800r/min振动速度，出料粒度可达5~10μm，支持干磨、湿磨及低温研磨，适用于热敏性材料且液氮耗量极少，一次可处理10个以上样品。
具备60-1800r/min振动速度及1-30Hz频率范围，支持干磨、湿磨和低温研磨，可处理进料≤8mm样品至5~10μm粒度，适用于热敏材料且液氮耗量少。
采用双罐研磨设计，振动速度60-1800r/min，出料粒度可达5~10μm，支持低温研磨保护热敏材料，一次处理多个样品且重复性高。
具备双罐研磨和低温功能，振动速度60-1800r/min，出料粒度5~10μm，可快速处理热敏材料，防止分子降解，支持高通量样品处理。
采用三相异步电机安全无火花，可处理高粘度物料并支持超长时间连续工作，研磨篮容积1.8L，调速范围0~3000rpm/min，实现高效分散和细化研磨。
