无级变频调速0-3000rpm，研磨介质0.8-2.0mm，运行稳定噪音小，可长时间连续工作，适用于中低粘度流体。
具备往复和顶击振动两种运动，筛分效率高且不堵塞筛面，可适配Φ200、Φ75、Φ100套筛，旋转次数290±6次/分钟，拍打次数156±3次。
采用背部加热和水平强迫对流技术，确保工作室温度均匀；控温精度达0.1℃，波动度±0.5℃；具备传感器故障报警和超温保护功能，定时范围0-9999分钟。
采用背部加热式结构和水平强迫对流技术，确保工作室温度均匀性。配备高精度铂电阻传感器，温度波动度仅±0.5℃，支持0-9999分钟定时功能，具备多重安全保护机制。
卧式运行防止样品沉底，研磨更均匀；四个工作位可同时处理不同物料；研磨时间仅需5-10分钟，最小出料粒度达0.1μm；具备正反向交替运转、无极调速、定时等多种功能模式。
采用360°翻滚研磨方式，球磨罐转速达1100r/min，出料粒度最小0.1μm，支持干湿磨及多种材质罐体，研磨均匀高效。
最大进料尺寸2mm，出料粒度最小0.1um，支持干磨湿磨真空研磨等多种方式，配置多种材质球磨罐，可控制转速和时间保证研磨重复性。
采用背部加热和水平强迫对流设计，温度波动度±0.5℃，控温范围室温+10℃~200℃，具备传感器故障报警和9999分钟定时功能，确保实验稳定高效。
采用背部加热式水平强迫对流技术，温度波动度±0.5℃，控温范围RT+10~200℃。具备传感器故障报警、超温保护和独立限温控制系统，确保实验安全可靠。
采用360°翻滚结构结合行星盘和球磨罐整体运动，球磨罐转速达850r/min，最小出料粒度可达0.1μm，支持干磨、湿磨等多种研磨方式，并具备可调速翻滚和间歇运行功能。
采用360度翻滚结构结合行星盘旋转，最大处理量80L，最小出料粒度0.1μm，支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式，配置多种材质球磨罐适应不同样品。
采用核心降噪技术降低运转噪音，行星盘与球磨罐转速比1:2产生强大粉碎力，最大处理量6000ml且出料细度达0.1μm，支持干湿磨等多种研磨方式。
设备支持垂直和水平燃烧测试，可设定燃烧和熄灭时间及重复次数，自动停止测试，内部尺寸305*355*610mm，适用于多种有机材料。
具备10L处理量和0.1μm出料精度，采用四工位设计和580rpm转速，支持干湿磨及真空研磨，配置600CFM散热系统和多种材质球磨罐可选，研磨一致性良好。
设备采用组合式结构便于维护，配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。最大处理量60L，最小出料粒度0.1μm，支持四种球磨罐工位和多种研磨模式。
