产品概述
衡平DC2010数显式低温恒温槽采用单片微处理控制、自整定PID调节，进口高精度铂电阻（Pt100）测温，控温精度高、波动度小。采用全封闭技术的压缩机，制冷效率高、噪声低，仪器工作稳定可靠，操作方便安全。适用于内外温控应用，可直接将样品放置在开口浴槽中恒温，也可外接控制外部需要恒温的测量单位。
产品特色
1. 采用微机温控PID调节、自整定控制技术，控温精度达±0.05℃
2. 全封闭品牌压缩机制冷系统，无CFC，降温快
3. 温度范围可选-50～100℃，容量范围6L、10L、15L、20L、30L，可定制
4. 机身外壳采用防老化静电喷塑技术，台板内胆搅拌泵等全部采用SUS304不锈钢材料
5. 人性化R圆角设计结构，避免操作人员被棱角所伤
6. 可拆卸通风格栅，方便清洁制冷单位冷凝器
7. 内循环功能采用无热量离心循环泵，避免传统水泵自身产热影响槽体温场
8. 外循环功能可经行恒温液体外引循环，建立第二温度场
9. 多重安全保护装置：断电保护、上下限温度设定、温度失控保护和报警、低水位防干烧防爆、压缩机过热过电流保护、传感器开路显示功能
工作原理
低温恒温槽通过微机温控系统采用自整定PID调节技术，结合进口高精度铂电阻（Pt100）测温，实现精确控温。采用全封闭压缩机制冷系统进行降温，并通过专业循环搅拌设计保证槽内液体均匀流畅，热交换平稳。适用于内外循环温控，提供恒定温度场源。
应用领域
生物工程、食品、化工、冶金、化学分析、石油、恒温领域：传感器检测、恒温生化反应、恒温材料老化等、生化领域：旋转蒸发仪、阿贝折光仪、粘度计、流变仪、旋光仪、原子吸收、ICP-MS、ICP、核磁共振、CCD、生物发酵罐、化学反应器（合成器）等、材料领域：电镜、X射线衍射、X荧光、真空溅射电镀、真空镀膜机、ICP刻蚀、各种半导体设备、疲劳试验机、化学沉积系统、原子沉积系统等、物化领域：激光器、磁场、各种分子泵、扩散泵、离子泵以及包括材料领域
操作步骤
1. 将样品放置在开口浴槽中或外接外部测量单位
2. 设置所需温度参数
3. 启动内循环或外循环功能
4. 监控温度波动和运行状态
5. 使用后清洁设备并关闭电源
注意事项
• 根据温度范围选择合适的介质（如纯水、乙二醇、酒精等）
• 确保电源电压为220VAC±10%，50Hz
• 定期清洁可拆卸通风格栅以保持制冷效率
• 注意低水位保护功能，防止加热装置干烧
• 避免在未经授权情况下拆卸或改装设备
• 使用前检查安全保护装置是否正常
