宇舟 GMP-2-300 光谱磨平机 金相试样磨平机 双盘无级调速带吸尘装置

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双盘独立控制可实现不同材料同步处理，无级调速100~1400r/min适应多种磨抛需求，内置吸尘装置有效收集粉尘，罩壳设计提升操作安全性。