产品概述
EX-1000荧光材料激发光谱与热猝灭分析系统是一款综合型荧光粉测量仪器，可测量荧光材料的激发光谱与发射光谱特性，并能在高温状态下分析其热猝灭特性，为荧光材料的研发与质量控制提供全面客观的数据。
产品特色
1. 激发光谱范围宽，覆盖200～800nm。
2. 激发光谱带宽1～10nm可调，激发波长精度高（±0.3nm）。
3. 采用HAAS-2000高精度快速光谱辐射计，配备科学级制冷CCD，发射光谱测量精度高（波长精度±0.3nm，色品坐标准确度±0.0003）。
4. 具备精确的温度控制系统，控制范围从室温至200℃，精度±2%。
5. 可提供三维激发-发射光谱图、二维光谱图及温度-亮度关系图等多种数据呈现方式。
6. 激发光源稳定度高（±1%），光度线性与重复性好（均优于±1%）。
工作原理
系统通过可调谐激发光源照射样品，测量其在不同激发波长下的发射光谱，从而获得激发光谱特性。同时，系统通过精确控温的加热装置，使样品处于设定高温下，测量其发光强度随温度的变化，以分析材料的热猝灭特性。
应用领域
灯用稀土三基色荧光粉研发与质量控制、白光LED灯用稀土黄色荧光粉研发与质量控制、各类荧光粉的性能评估
操作步骤
1. 将待测荧光粉样品置于规定尺寸的不锈钢粉盘中。
2. 设置所需的激发光谱测量参数（如波长范围、带宽）。
3. 如需测量热猝灭特性，设置目标温度（室温至200℃）。
4. 启动系统进行测量，获取激发光谱、发射光谱或温度-亮度数据。
5. 通过软件分析并生成三维光谱图、二维光谱图等结果。
注意事项
• 温度在150℃至200℃范围内时，建议单次连续工作时间不超过10分钟。
• 样品粉盘需使用内径Φ20mm、深3mm、边缘小于0.5mm的不锈钢盘，以确保测量条件一致。
• 操作时需确保激发/观察条件符合CIE 0/45标准。
