产品概述
16Ez匀胶机是一种基于离心力原理的设备，用于在基片表面涂覆薄膜、胶液或其他液体材料。该设备在半导体制造、光学涂层和材料科学等领域有重要应用，特别适用于光刻胶涂布和涂硼等工艺。16Ez型号采用触摸屏控制，支持全球电压AC90-250V，配备可靠电机和驱动器，匀胶时间达3000秒，转速范围100-10000rpm，加速度100-10000rpm/s。
产品特色
1. 匀胶效率高，使用方便。
2. 匀胶速度和时间分多个时段，无级可调。
3. 电器线路可靠，电机运转平稳，转矩大。
4. 吸片采用电磁阀控制气路，适合流水线工艺，一个气泵可带多个匀胶机工作。
5. 涂覆均匀性好，工艺参数可控。
6. 旋转速度范围宽，支持真空吸附和自动控制。
工作原理
匀胶机通过将胶液滴在旋转的基片上，利用离心力使胶液从中心向外扩散，在基片表面均匀分布形成薄膜或涂层。旋转速度、时间和胶液粘度等参数影响涂层的厚度和均匀性。
应用领域
半导体制造、光学涂层、材料科学、光刻胶涂布、涂硼工艺、聚合物涂层、薄膜制备
操作步骤
1. 将基片放置在托盘上，通过真空吸附固定。
2. 在触摸屏上设置程序，包括旋转速度、时间和加速度等参数。
3. 将胶液滴在基片表面。
4. 启动设备，进行旋转涂覆过程。
5. 完成后取出基片。
注意事项
• 确保电源电压在AC90-250V范围内。
• 真空输入要求为0.06-0.09MPa，流量最小15升/分钟。
• 根据基片直径选择合适的托盘。
• 调整工艺参数时考虑胶液粘度和应用需求。
• 定期检查电机和电磁阀运行状态。
