产品概述
匀胶机是一种用于涂覆薄膜、涂胶液或其他液体材料在基片表面上的设备，其工作原理基于离心力。在半导体制造、光学涂层、材料科学等领域具有重要应用，特别是在制备薄膜、涂覆光刻胶等工艺中。12AC匀胶机是一款触摸显示屏的实验匀胶机，加速度可通过数字调整，范围100~4000rpm/s，通过A/K选择Kx试运行可自动修正转速，可选配真空泵。
产品特色
1. 匀胶效率高，使用方便。
2. 匀胶速度、时间分多个时段，并分别无级可调。
3. 电器线路可靠，电机运转平稳，转矩大优于同类产品。
4. 吸片采用电磁阀控制气路，适合流水线工艺，一个气泵可同时带几个匀胶机工作。
5. 涂覆均匀性高，通过离心力实现高质量薄膜或涂层。
6. 工艺可控性强，提供丰富的参数调节选项如旋转速度、时间、涂覆位置。
7. 应用广泛，适用于光刻胶涂覆及其他胶液、液体材料。
8. 旋转速度范围宽，从低速到高速可调。
9. 配备真空吸附系统，确保基片稳定固定。
10. 提供自动控制选项，可通过编程预设涂覆参数。
工作原理
匀胶机的工作原理是通过将胶液滴在旋转的基片上，然后通过旋转运动使胶液在基片表面均匀分布，形成薄膜或涂层。离心力会将胶液从中心向外边界扩散，最终形成均匀的涂层。旋转速度和时间以及胶液的粘度等参数会影响薄膜或涂层的厚度和均匀性。
应用领域
半导体制造、光学涂层、材料科学、光刻胶涂布、涂硼、聚合物涂层、薄膜制备
操作步骤
1. 将胶液滴在旋转的基片上。
2. 通过A/K选择Kx试运行自动修正转速。
3. 调整旋转速度、时间等参数。
4. 启动旋转过程，使胶液均匀分布。
5. 可选配真空泵进行真空吸附固定基片。
注意事项
• 旋转速度、时间、胶液粘度等参数会影响涂层厚度和均匀性，需根据具体需求调整。
• 确保真空输入要求为0.06-0.09MPa，真空流量40升/Min以上。
• 使用前检查电源电压为AC200-230V，单相，200W。
• 基片需牢固固定在托盘上，防止旋转过程中脱落。
• 操作时注意安全，避免高速旋转部件接触。
