产品概述
匀胶机是一种用于涂覆薄膜、涂胶液或其他液体材料在基片表面上的设备，其工作原理基于离心力。该设备在半导体制造、光学涂层、材料科学等领域具有重要应用，特别是在制备薄膜、涂覆光刻胶等工艺中。12AC匀胶机是一款触摸显示屏的实验匀胶机，加速度可通过数字调整，范围100~4000rpm/s，通过A/K选择Kx试运行可自动修正转速，可选配真空泵。
产品特色
1. 匀胶效率高，使用方便。
2. 匀胶速度、时间分多个时段，并分别无级可调。
3. 电器线路可靠，电机运转平稳，转矩大，优于同类产品。
4. 吸片采用电磁阀控制气路，适合流水线工艺，一个气泵可同时带几个匀胶机工作，提高效率。
5. 涂覆均匀性高，通过离心力实现高质量薄膜或涂层。
6. 工艺可控性强，提供丰富的参数调节选项。
7. 应用广泛，适用于光刻胶涂覆及其他胶液、液体材料。
8. 旋转速度范围宽，从低速到高速可调节。
9. 配备真空吸附系统，确保基片稳定固定。
10. 提供自动控制选项，可通过编程预设涂覆参数。
工作原理
匀胶机的工作原理是通过将胶液滴在旋转的基片上，然后通过旋转运动使胶液在基片表面均匀分布，形成薄膜或涂层。离心力会将胶液从中心向外边界扩散，最终形成均匀的涂层。旋转速度、时间以及胶液的粘度等参数会影响薄膜或涂层的厚度和均匀性。
应用领域
半导体制造、光学涂层、材料科学、光刻胶涂布、涂硼、聚合物涂层、薄膜制备
操作步骤
1. 通过A/K选择Kx试运行可自动修正转速。
2. 调整旋转速度、时间等参数。
3. 使用真空吸附系统固定基片。
4. 滴加胶液并启动旋转涂覆过程。
注意事项
• 确保电源电压为AC200-230V，单相，200W。
• 真空输入要求为0.06-0.09MPa，真空流量40升/Min以上。
• 使用前检查真空接口和管路连接。
• 根据具体应用调整工艺参数，如旋转速度、时间等。
• 注意设备重量，匀胶机14KG，选配件真空泵5KG。
