干涉金相显微镜

该设备采用无限远长距明场金相物镜，满足长工作距离测量需求，同时具备高亮度LED或卤素照明选项，并支持1200万像素高清CCD图像成像。

配备100X-1250X放大范围，7毫米调焦系统支持精确对焦，可通过电脑或数码相机实时观察和记录金相组织图像。

采用粗微调同轴机构，微调精度达0.002mm，配备复合式双层机械移动平台和落射式柯拉照明系统，有效防反射干扰，提升成像清晰度和操作稳定性。

专为氟离子测量设计，提供250ml包装，具备抗干扰能力，可有效屏蔽其他离子干扰，提升检测精度和稳定性。

重型不锈钢结构确保稳定支撑，配备3个强力磁铁实现牢固吸附，保持显微镜垂直状态，适用于各种金属表面固定需求。

提供40倍放大和0.60数值孔径，确保高分辨率和长工作距离，适用于多种显微镜应用场景。

采用冷光源窄带干涉光学系统，光学稳定性小于0.002A/20min，支持室温至180℃无级温控，抗氯干扰达2000mg/L，批处理20个水样，操作简便无需换管。

采用铝材质制造，外形尺寸150*220*290mm，支持360°旋转调节和手臂式可调，适用于多种显微镜型号。

双盘设计可两人同时操作，转速50-1000rpm无极可调，支持正反转和冷却功能，适应不同磨抛需求，提高制样效率。

具备透反射双光学路径，支持360度旋转工作台和6'游标精度，无需样品染色即可实现高对比度晶体结构观察，配备无限远光学系统和四孔物镜转换器。

具备透射和反射双照明模式，支持明场与偏光观察，物镜放大倍数4X-100X，瞳距55-75mm，铰链式镜筒可360度自由转动。

采用改进型16位微电脑处理器和步进电机直接传动，转速范围0.1~200rpm，测量精度±1%F.S，具备连续采集和超限报警功能，抗干扰性强。

采用偏振光干涉原理，配备560nm全波片，可定性或半定量测量内应力，检偏镜通光口径达150mm，支持连续快速分析透明材料。

支持毛细管和热台两种测定方法，温度范围RT+~320℃，显微镜40倍放大观察，重复性±1℃(≤200℃)，满足晶体有机化合物熔点测定需求。

单盘式设计集成预磨研磨抛光功能，支持无极调速100-1000rpm和四档调速，压力范围35-150N，配备电磁离合器锁紧和自动清洗系统，操作平稳安全。