双盘设计支持研磨抛光独立操作,无级调速范围20~120rpm,采用气动加压和磁性快速换盘结构,配备自动锁紧和出水功能,可同时夹持6个试样实现高效自动制样。
具备双罐研磨和1-30Hz振动频率调节,支持低温研磨保护热敏材料,出料粒度可达5~10μm,一次可处理10个以上样品且研磨时间仅需1-3分钟。
采用双罐研磨设计,振动速度60-1800r/min,出料粒度可达5~10μm,支持低温研磨保护热敏材料,一次处理10个以上样品,研磨时间仅需1-3分钟。
配备湿磨供水系统,传动平稳噪音低,抛盘直径230mm,转速900r/min,操作维护简便,适用于多种材料预磨要求。
设备配备独立控制双盘系统,支持700/900/1400rpm三档转速切换,采用柜式结构便于存放耗材,并集成冷却水管实现湿磨操作,提升制样效率与稳定性。
采用双罐研磨设计,振动速度60-1800r/min,出料粒度可达5~10μm,支持干磨、湿磨和低温研磨,适用于热敏性材料且液氮耗量极少。
采用双罐设计实现高通量研磨,振动速度60-1800r/min可调,出料粒度达5~10μm,支持干磨、湿磨及低温研磨,有效保护热敏性材料分子结构。
采用单片机控制实现自动研磨,支持6个试样同时夹持,磨盘转速100~1000rpm无级调节,具备单点气动加压0~50N和中心加压0~160N,磁性底盘设计便于快速更换。
双盘独立控制可实现不同材料同步处理,无级调速100~1400r/min适应多种磨抛需求,内置吸尘装置有效收集粉尘,罩壳设计提升操作安全性。
采用双罐研磨设计,振动速度60-1800r/min,出料粒度可达5~10μm,支持低温研磨保护热敏材料,一次处理多个样品且重复性高。
具备双罐研磨和低温功能,振动速度60-1800r/min,出料粒度5~10μm,可快速处理热敏材料,防止分子降解,支持高通量样品处理。