免疫电子显微镜

采用四孔转换器和库列照明系统，总放大倍数100X~1000X，支持电脑实时观察和自动评级分析，操作舒适稳定。

采用长距平场消色差物镜，微动格值2μm，配备三目镜筒可切换正常与偏光观察，内置视场光栏和滤色片系统。

采用平场物镜和目镜提供清晰平坦视场，总放大倍数100X~1250X，配备双层机械载物台和落射照明系统，支持双光路输出便于观察和摄像。

采用平场物镜和目镜，总放大倍数100X至1250X，微动调焦精度达0.002mm，支持显微摄影，适用于金属组织结构观察和分析。

配备100X-1250X放大范围，7毫米调焦系统支持精确对焦，可通过电脑或数码相机实时观察和记录金相组织图像。

采用粗微动同轴调焦系统，微动格值2μm，支持电脑实时观察和图像自动评级分析，操作稳定舒适。

配备长工作距平场消色差物镜，总放大倍数10X至50X，三层机械移动平台提供75mm×40mm行程，反射式柯拉照明系统光强连续可调。

配备大视野目镜和长距平场消色差物镜，视场大而清晰；粗微动同轴调焦机构微动格值2μm，带锁紧限位装置；6V20W卤素灯亮度可调，可选配转轴式三目镜实现偏光观察。

采用无限远光学系统，配备5X-50X明暗场物镜，工作距离2.5-9.7mm，具备防霉设计和机械移动载物台，支持偏光观察和摄像功能。

配备长工作距平场消色差物镜和6V30W卤素灯，总放大倍数10X-50X，提供三层机械移动平台和粗微调同轴调焦机构，操作简便且成像清晰。

采用粗微调同轴机构，微调精度达0.002mm，配备复合式双层机械移动平台和落射式柯拉照明系统，有效防反射干扰，提升成像清晰度和操作稳定性。

采用无限远长距平场明场消色差物镜，微动格值2μm，配置落射与透射照明系统，可进行明场、偏光和DIC观察，适用于半导体晶圆检测和精密模具分析。

采用粗微动同轴调焦机构，微动格值2μm，配置落射与透射两套照明系统，可分别观察不透明和透明样品，三目镜筒可切换偏光观察。

采用无限远光学系统与模块化设计，可升级偏光与暗场功能；配置大移动范围载物台（204mm×204mm）和微动格值0.7μm的调焦机构，紧凑稳定且操作舒适。

采用相衬显微技术可观察低衬度活体样品，配备10X-100X相衬物镜和N.A.1.25聚光镜，支持粗微动同轴调焦机构微调格值0.002mm。