仪器商品分类

    金相试样磨抛机

    金相试样磨抛机通过旋转磨盘对金属试样进行研磨和抛光,去除表面划痕和氧化层,使试样表面平整光亮。该设备用于金相分析前的样品制备,便于在显微镜下观察材料的微观组织。
    仪器选型
    选择金相试样磨抛机需考虑试样材质和尺寸,匹配磨盘转速和压力范围。设备应具备稳定的旋转精度和冷却系统,操作界面简单,维护方便。根据实验室空间和样品处理量确定机型大小。

    检测仪器

    双盘系统独立控制研磨抛光,无级调速范围50~1400rpm,柜式结构便于存放耗材,配备冷却水管支持湿磨,适用于多种试样处理工序。

    单盘式设计集成预磨研磨抛光功能,支持无极调速100-1000r/min和四档调速,压力范围35-150N,配备电磁离合器锁紧和自动清洗系统,操作平稳安全。

    采用伺服电机提供750W和400W动力,支持50~1000r/min无级调速和四档调速,具备双盘设计、磨头电磁锁和十种程序存储功能。

    采用单片机控制实现二档四速调节,转速范围300至1000rpm,配备冷却水管和磨盘冲洗功能,防漏主轴设计提升轴承寿命,适用于湿磨和多种试样处理。

    可供双人同时操作,配备湿磨用供水系统,传动平稳且噪音小,抛盘直径230mm,转速可选400r/min或500r/min,操作维护简便。

    ¥ 3536.00

    双盘设计支持研磨抛光独立操作,无级调速范围20~120rpm,采用气动加压和磁性快速换盘结构,配备自动锁紧和出水功能,可同时夹持6个试样实现高效自动制样。

    双盘独立控制,无级调速范围50~1400r/min,可切换旋转方向。采用直流无刷电机,噪音低且扭力强,配备冷却水管和磨盘冲洗功能,防止磨削物沉淀。

    具备双盘独立控制系统,支持三档转速调节,最高达1400rpm。采用柜式结构便于存放耗材,配备冷却水管可实现湿磨操作,适用于多种试样制备工序。

    设备配备独立控制双盘系统,支持700/900/1400rpm三档转速切换,采用柜式结构便于存放耗材,并集成冷却水管实现湿磨操作,提升制样效率与稳定性。

    采用单片机控制,双盘双速设计,转速500/1000rpm,配备冷却水管和磨盘底部冲洗功能,防腐蚀机身和防漏主轴确保设备耐用性。

    采用单片机控制实现自动研磨,支持6个试样同时夹持,磨盘转速100~1000rpm无级调节,具备单点气动加压0~50N和中心加压0~160N,磁性底盘设计便于快速更换。

    采用伺服电机驱动,磨抛盘直径230mm,支持无级调速50-1000r/min。具备磁性盘快速更换、磨头电磁锁自动落锁和十种程序存储功能,提升操作安全性和适应性。

    双盘设计可独立操作研磨抛光,无级调速范围20~120rpm,支持正反转;采用气动加压和磁性快速换盘,试样夹持达6个,提高制样一致性。

    采用金刚石打磨针可打平砂轮表面,提高砂轮利用率,配备供水系统支持湿磨与干磨,砂轮规格为Ф250×30×Ф32mm,转速1400r/min。

    双盘独立控制可实现不同材料同步处理,无级调速100~1400r/min适应多种磨抛需求,内置吸尘装置有效收集粉尘,罩壳设计提升操作安全性。