仪器商品分类

    光学涂膜机

    光学涂膜机通过旋转或提拉方式在基材表面形成均匀薄膜,利用离心力或重力控制膜厚。用于实验室制备光学涂层、滤光片等样品,可模拟镀膜工艺进行材料测试。
    仪器选型
    选择时考虑基材尺寸匹配涂膜机卡具规格,根据所需膜厚范围确定转速或提拉速度参数,结合待涂覆液体粘度选择旋转或浸渍模式,需验证温控精度对材料稳定性的影响。

    术语

    检测仪器

    采用漫透射光路设计,光密度测量范围0.00-6.00 OD,透光率精度±2%,可同时测量透光率、绝对光密度、相对光密度和网点面积率。

    ¥ 3718.00

    宽度2cm,光程10mm,外形尺寸12.5×22.5×45mm,专为分光光度计设计的配套比色皿,确保光学检测精度。

    ¥ 170.00

    宽度3cm,光程10mm,外形尺寸12.5×32.5×45mm,作为分光光度计专用配件,确保光路稳定和测量准确性。

    ¥ 200.00

    三合一光路设计可同时测量蓝光430nm、紫光395nm和可见光透过率,测试孔径Φ1mm适应大厚度材料,具备实时动态自校准功能确保数据精准。

    ¥ 1860.00

    宽度为5cm,光程10mm,外形尺寸12.5×52.5×45mm,适用于分光光度计配套使用,确保光学检测精度。

    ¥ 250.00

    采用光电检测及微机伺服系统,灵敏度高,最小读数±0.005°,重复性≤0.007°,可测透过率≥10%的低旋光度样品,无读数人差。

    ¥ 6350.00

    采用光学荧光法无需参比溶液,内置温度传感器实时校准数据,双量程设计覆盖0~20mg/L与0~200%饱和度,10米长线缆支持深水或远距离安装,聚甲醛与不锈钢复合结构增强环境适应性。

    ¥ 3485.00

    采用双光束反馈光学系统实时补偿光源波动,光谱反射率重复性标准偏差0.1%以内,器间差ΔE*ab高达0.08,无需UV校正即可准确测量荧光材料。

    采用漫透射测量原理,光密度测量范围达6.000 OD,精度±0.02 OD,配备固定座和支架,支持两种测量方式,适用于半透明材料测试。

    ¥ 4150.00

    采用无限远光学系统,配备40X-1000X放大范围和N.A.1.25阿贝聚光镜,支持数字化观察和多种辅助设备扩展。

    ¥ 12310.00

    采用无限远光学系统,支持多种观察方式,配备六孔物镜转换器和N.A.1.1阿贝聚光镜,放大倍数40X-1000X,操作简便灵活。

    ¥ 64300.00

    采用寿命超十万小时的LED冷光源,测量范围达±89°旋光度,支持旋光度、比旋度、浓度和糖度多种测量,准确度±0.01°,重复性标准偏差0.002°,全自动操作方便集成。

    采用无限远光学系统,提供清晰成像;超长工作距离聚光系统达70mm,支持高培养皿观察;紧凑稳定主体设计,有效防振。

    ¥ 16560.00

    采用光电检测和刻度盘自动示数,测量范围±45°,最小读数0.001°,对低旋光度样品也能准确分析,操作简便。

    ¥ 8100.00

    采用无限远光学系统及模块化设计,配置无应力长工作距离平场物镜,微动格值2μm,旋转载物台带360°刻度,支持偏光观察装置灵活移入移出光路。

    应用知识

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    这篇文章比较了涂膜机和喷枪两种实验室制膜方法。涂膜机通过刮涂能制备厚度均匀、重复性高的涂层,适合精确的配方研究。喷枪模拟实际喷涂,但膜厚均匀性较差,表面可能更粗糙。
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    铜纳米线与氧化锌薄膜制备用涂膜机
    涂膜机是制备铜纳米线和氧化锌薄膜的关键设备,通过刮刀涂布等方式在基底上均匀涂覆浆料,形成薄膜。