偏光光学显微镜

采用无限远光学系统及模块化设计，配置无应力长工作距离平场物镜，微动格值2μm，旋转载物台带360°刻度，支持偏光观察装置灵活移入移出光路。

采用无限远光学系统，配置无应力长工作距离平场物镜，微动格值2μm，旋转载物台360°可调，支持偏光观察与显微摄影。

采用无限远光学系统，配置无应力长工作距离平场物镜，微动格值2μm，旋转载物台垂直行程30mm，支持三目镜筒切换观察与摄影。

具备透射和反射双照明模式，支持明场与偏光观察，物镜放大倍数4X-100X，瞳距55-75mm，铰链式镜筒可360度自由转动。

支持透反射双光学路径观察，配备9.7寸平板电脑成像系统，提供高对比度图像显示，无需样品特殊处理即可清晰呈现表面形貌与结构特征。

采用无限远光学系统，配备40X-1000X放大范围和N.A.1.25阿贝聚光镜，支持数字化观察和多种辅助设备扩展。

配备无限远光学系统和500万像素CMOS摄像头，支持单偏光、正交偏光及锥光观察，转换器四孔设计，聚光镜数值孔径1.25，满足高精度晶体结构研究需求。

采用无限远光学系统，支持40X-1600X放大范围，配备阿贝聚光镜和同轴调焦机构，可实现高分辨率实时观察和数字存储功能。

无限远光学系统提供高分辨率图像，配备六孔物镜转换器和N.A.1.1阿贝聚光镜，支持自动对焦和多种观察方式，放大倍数40X-1000X。

采用无限远光学系统，配备相衬聚光镜和500万像素CMOS摄像机，支持40X-1600X放大观察，具备几何测量分析功能。

采用无限远光学系统，支持40X-1000X放大范围，配备500万像素CMOS摄像机和同轴调焦机构，可连接垂直照明和荧光装置扩展功能。

采用无限远光学系统提高成像质量，工作距离长达20mm，支持多种观察方法，放大倍数40X-1000X，满足不同实验需求。

采用无限远光学系统，提供清晰成像；超长工作距离聚光系统达70mm，支持高培养皿观察；紧凑稳定主体设计，有效防振。

采用无限远光学系统，支持多种观察方式，配备六孔物镜转换器和N.A.1.1阿贝聚光镜，放大倍数40X-1000X，操作简便灵活。

采用无限远光学系统与模块化功能设计，可实现偏光与暗场观察；粗微动同轴调焦系统微动格值2μm，导柱升降装置适应不同厚度工件检测需求。