采用漫透射光路设计，光密度测量范围0.00-6.00 OD，透光率精度±2%，可同时测量透光率、绝对光密度、相对光密度和网点面积率。
采用无限远光学系统，配备相衬聚光镜和可变光栏，放大倍数40X-1600X，支持相衬物镜和明场观察，可扩展荧光等辅助装置。
三合一光路设计可同时测量蓝光430nm、紫光395nm和可见光透过率，测试孔径Φ1mm适应大厚度材料，具备实时动态自校准功能确保数据精准。
采用无限远光学系统，配备相衬聚光镜和500万像素CMOS摄像机，支持40X-1600X放大观察，具备几何测量分析功能。
采用无限远光学系统，支持40X-1000X放大范围，配备500万像素CMOS摄像机和同轴调焦机构，可连接垂直照明和荧光装置扩展功能。
采用无限远光学系统，支持多种观察方式，配备六孔物镜转换器和N.A.1.1阿贝聚光镜，放大倍数40X-1000X，操作简便灵活。
采用无限远光学系统，支持明场、荧光、相衬、偏光多种观察模式；配备六孔转换器带DIC插槽和100W汞灯光源，提供高分辨率图像；自动对焦系统保持样本焦平面稳定。
采用无限远光学系统，配置无应力平场物镜，微动格值达2μm，旋转载物台带360°刻度，支持三目观察与显微摄影，工作台垂直行程30mm。
采用无限远光学系统与模块化设计，可升级偏光与暗场观察功能；粗微动同轴调焦系统微动格值2μm，圆柱滚子导向传动确保升降平稳，适用于不同厚度工件检测。
采用无限远光学系统，支持40X-1600X放大范围，配备阿贝聚光镜和同轴调焦机构，可实现高分辨率实时观察和数字存储功能。
采用双光束反馈光学系统实时补偿光源波动，光谱反射率重复性标准偏差0.1%以内，器间差ΔE*ab高达0.08，无需UV校正即可准确测量荧光材料。
无限远光学系统提供高分辨率图像，配备六孔物镜转换器和N.A.1.1阿贝聚光镜，支持自动对焦和多种观察方式，放大倍数40X-1000X。
配备无限远光学系统和500万像素CMOS摄像头，支持单偏光、正交偏光及锥光观察，转换器四孔设计，聚光镜数值孔径1.25，满足高精度晶体结构研究需求。
