涂布宽度300mm，涂布精度±0.005mm，刮刀可快速拆卸清洗，三段独立控温烘箱确保均匀干燥，适合多种基材和浆料处理。
采用浸涂工艺配合双辊挤压余料，涂布厚度可调，机械速度0.1-1.2m/min，烘箱温度50-150℃±3℃，适用于多种涂料涂布。
配备8米烘箱，胶辊加热温度达200℃，有效涂布宽度500mm，涂布厚度范围0.005-3mm，支持自动放卷到收卷流程，适用于热熔胶涂膜。
支持0-3000um涂层厚度调节，走速0-5m/min，烘箱温度40-150℃；模块化机头可切换挤压、刮刀等多种涂布功能，集成张力闭环控制和红外干燥选项。
控温范围RT+~300℃，工作槽容积23L，适用于蒸馏、干燥、浓缩及浸渍等实验操作，满足多种化学和生物实验需求。
控温精度达0.1℃，温度波动±0.5℃，采用低噪声风机和超细玻璃棉隔热，确保箱内温度均匀稳定，适用于菌种储藏和生物培养。
控温精度达0.1℃，温度波动±0.5℃，采用不锈钢内胆和钢化玻璃观察窗，配备低噪声风机确保温度均匀，适用于菌种储藏和生物培养。
采用铰链式双目观察头，双瞳间距可调55-75mm，总放大倍数40X-1600X，配备阿贝聚光镜和双层机械载物台，支持相衬、暗场等配件扩展。
采用内腔预热技术确保温度均匀分布，配备强制对流系统缩短温度恢复时间。控温精度±0.1℃，容积50L，支持远程监控和多层搁板调节，符合国际安全标准。
长方形工作室有效容积大，真空度小于133Pa，控温范围室温+15℃至200℃，采用高精度铂电阻传感器和钢化防弹双层玻璃观察窗。
采用ALLCOLD平衡式制冷技术，配备自动除霜功能，控温精度达±1℃；五级可调光照系统最高达15000LX，支持多段编程控制，满足长期连续实验需求。
采用内腔预热技术实现温度均匀分布，配备强制对流气流循环系统缩短温度恢复时间。控温范围RT+50~250℃，容积23L，具备多重安全保护和远程监控功能。
具备实时视频录制和回放功能，支持40X-1600X放大范围，采用高分辨率摄像头可清晰呈现细胞等微小结构细节。
采用倒置光学设计，工作距离达55mm，支持40X-640X放大观察，配备相衬装置可直接观察未染色活体细胞，特别适合培养皿内显微研究。
采用内腔预热技术实现温度均匀分布，配备强制对流气流系统缩短温度恢复时间。容积50L，温度波动度±0.5℃，适用于粉末或颗粒样品干燥。
