采用D/8光学结构,重复性ΔE*ab不高于0.03,可自定义色差阈值进行QC检测,支持7种颜色空间和6种色差公式,满足多行业颜色管理需求。
采用20mm大口径设计,能均匀测量纹理粗糙表面;重复性△E*ab≤0.03,确保高精度;配备触摸屏和色卡匹配,操作便捷,支持多种色差公式和颜色空间。
采用无限远光学系统,配备半复消色差物镜和相衬聚光镜,提供40X-1000X放大范围,可观察较厚样本并增强细胞结构三维轮廓。
采用双光束反馈光学系统实时补偿光源波动,光谱反射率重复性标准偏差0.1%以内,器间差ΔE*ab高达0.08,无需UV校正即可准确测量荧光材料。
采用45°/0°光学几何结构,测量结果与目测一致;8mm测量口径,重复性ΔE*ab在0.08以内;内置白板参数无需每次校验,双定位技术提升测量精准度。
采用45/0光学结构和256像元双阵列CMOS感应器,重复性ΔE*ab控制在0.02以内,支持多种测量口径和荧光样品,确保颜色数据准确稳定。
采用漫透射光路设计,光密度测量范围0.00-6.00 OD,透光率精度±2%,可同时测量透光率、绝对光密度、相对光密度和网点面积率。
采用双光路设计提升测量稳定性,重复性精度达dE*ab≤0.03;集成纳米光学器件厚度仅5微米,支持40种光源和30多种测量指标。
采用双光路传感阵列和紫外增强硅光电二极管,分辨率0.0001,透射率测量范围0-200%,支持APHA/PtCo、Gardner和Saybolt色度标尺,确保高重复性和准确性。
采用45/0°光学结构,非接触距离7.5mm,测量波长400-700nm,避免样品污染与损伤,支持多种测量模式和高精度色彩分析。