采用D/8光学结构，重复性ΔE*ab不高于0.03，可自定义色差阈值进行QC检测，支持7种颜色空间和6种色差公式，满足多行业颜色管理需求。
采用无限远光学系统，配备半复消色差物镜和相衬聚光镜，提供40X-1000X放大范围，可观察较厚样本并增强细胞结构三维轮廓。
采用双光束反馈光学系统实时补偿光源波动，光谱反射率重复性标准偏差0.1%以内，器间差ΔE*ab高达0.08，无需UV校正即可准确测量荧光材料。
采用45°/0°光学几何结构，测量结果与目测一致；8mm测量口径，重复性ΔE*ab在0.08以内；内置白板参数无需每次校验，双定位技术提升测量精准度。
提供25、40、70、100四种剖面规格，尺寸87x87x2.5mm，重量仅60克，便携式设计方便现场快速比对评估。
采用45/0光学结构和256像元双阵列CMOS感应器，重复性ΔE*ab控制在0.02以内，支持多种测量口径和荧光样品，确保颜色数据准确稳定。
双光路设计提升稳定性，重复性精度dE*ab≤0.03；5微米纳米集成光学器件实现高精度分光；超过30种测量参数和近40种评价光源；锆基准自动校准确保长期稳定。
采用漫透射光路设计，光密度测量范围0.00-6.00 OD，透光率精度±2%，可同时测量透光率、绝对光密度、相对光密度和网点面积率。
采用双光路设计，重复性精度dE*ab≤0.03；5微米纳米集成光学器件实现纳米级分光；支持超过30种测量参数和40种评价光源；配备锆基准校准底座和内置摄像头，确保稳定性和准确性。
采用双光路设计提升测量稳定性，重复性精度达dE*ab≤0.03；集成纳米光学器件厚度仅5微米，支持40种光源和30多种测量指标。
核心参数dE*ab≤0.03；双光路设计提升重复性，5微米纳米集成光学器件增强稳定性；提供10种测量口径与内置摄像头，支持多平台APP及PC软件；校准底座含莫氏硬度9锆基准，长期可靠。
采用无限远光学系统，配置平场消色差荧光物镜，微动格值2μm，粗微动同轴调焦，支持多种荧光滤光片组，适用于低照度显微图像拍摄。
