涂膜厚度22.9μm，涂布宽度30cm，采用耐磨不锈钢材质，成型式工艺，适用于低粘度胶水和热敏胶实验涂布。
采用470nm波长和双侧LED光源照射，配备琥珀色滤光片和105*163mm切胶区域，可实现精准的荧光样品分离操作。
采用双侧LED光源和400nm波长，配备琥珀色滤光片，切胶区域达105*163mm，便于精确分离荧光标记的核酸蛋白样品。
采用365nm波长双侧LED光源，配备琥珀色滤光片，切胶区域达105*163mm，可清晰观察荧光并精确分离目标区域。
采用高精度模组化涂布站结构，支持0.01mm最低涂布厚度和280mm可调涂布宽度，具备正反转无级变速和自动收卷功能，便于快速拆卸清理残胶。
采用狭缝涂布方式，涂布厚度范围10-250μm，干膜精度达±3微米，配备全自动恒张力控制与四节烘箱分段恒温，确保涂布均匀稳定，烘箱带余热回收系统节能约30%。
设备采用高精度模组化涂布站，全电动控制无需气源，最低上胶厚度0.01mm，涂布速度2-4.5m/min可调，具备电控精密张力适应多种材料如纸张、塑料和金属膜。
采用狭缝涂布方式，涂布宽度≤500mm，厚度范围10-250μm；配备自动纠偏和恒张力系统，烘箱温度RT+~160℃，支持分段恒温，确保涂布精度±3微米。
挤压式生产工艺确保涂膜均匀，涂膜厚度22.9μm，涂布宽度300mm，适合低粘度胶水实验，材质耐磨不锈钢延长使用寿命。
最大涂布宽幅达1000mm，涂布速度1-10m/min可调，支持无限长度涂布和自动收卷，正反转无级变速，放料和收料卷轴张力可调，加温棒和胶槽可快速拆卸清理残胶。
采用狭缝挤压供料方式，涂布厚度精度达±0.003mm，涂布速率5~180mm/s可调，支持多种涂布工艺和基材，可在手套箱内工作，满足实验室研发需求。
采用狭缝挤压供料方式，涂布精度达±0.003mm，支持5~180mm/s无极变速，加热温度范围RT+~200℃，适用于多种基材涂布实验。
采用浸涂方式配合双辊挤压结构，涂布厚度0.3-10mm可调，机械速度1.2m/min可慢速调节，内置胶液循环系统确保涂布均匀性。
精度高达±2微米确保实验准确性，涂布宽度160mm总长190mm加长设计，采用高硬度不锈钢材质硬度值50~55HRC，耐腐蚀耐磨且表面光洁。
