涂膜厚度22.9μm，涂布宽度30cm，采用耐磨不锈钢材质，成型式工艺，适用于低粘度胶水和热敏胶实验涂布。
挤压式生产工艺确保涂膜均匀，涂膜厚度22.9μm，涂布宽度300mm，适合低粘度胶水实验，材质耐磨不锈钢延长使用寿命。
采用470nm波长和双侧LED光源照射，配备琥珀色滤光片和105*163mm切胶区域，可实现精准的荧光样品分离操作。
采用双侧LED光源和400nm波长，配备琥珀色滤光片，切胶区域达105*163mm，便于精确分离荧光标记的核酸蛋白样品。
采用365nm波长双侧LED光源，配备琥珀色滤光片，切胶区域达105*163mm，可清晰观察荧光并精确分离目标区域。
设备采用高精度模组化涂布站，全电动控制无需气源，最低上胶厚度0.01mm，涂布速度2-4.5m/min可调，具备电控精密张力适应多种材料如纸张、塑料和金属膜。
采用高硬度不锈钢材质，硬度达50~55HRC，精度控制在±2微米，表面光洁且支持非标定制，可配套自动涂膜机使用。
采用高硬度不锈钢材质，硬度达50~55HRC，涂膜精度±2μm，表面光洁支持多种涂布需求，可搭配涂膜机实现自动涂膜操作。
采用狭缝涂布方式，涂布宽度≤500mm，厚度范围10-250μm；配备自动纠偏和恒张力系统，烘箱温度RT+~160℃，支持分段恒温，确保涂布精度±3微米。
采用狭缝涂布方式，涂布厚度范围10-250μm，干膜精度达±3微米，配备全自动恒张力控制与四节烘箱分段恒温，确保涂布均匀稳定，烘箱带余热回收系统节能约30%。
涂布速度5-200mm/s可调，涂布厚度范围0.001-10mm，配备真空吸附系统确保基材稳定，触摸屏控制实现精准操作，提高涂膜重现性。
涂布精度达±0.003mm，厚度范围0~10mm，涂布速率5~180mm/s，采用无极变速和真空吸附设计，确保涂膜重现性和均匀性。
采用进口线棒精度达1μm，涂布速率5~200mm/s可调，支持刮刀和线棒两种涂布方式，加热温度均匀度±3℃，适用于多种基材厚度处理。
涂布精度达±0.001mm，涂布速率2~180mm/s无极变速，采用可拆卸刮刀易清洗，加热温度均匀度±3℃，确保涂布过程稳定高效。
