暗场显微镜

采用无限远光学系统与模块化设计，可升级偏光与暗场观察功能；粗微动同轴调焦系统微动格值2μm，圆柱滚子导向传动确保升降平稳，适用于不同厚度工件检测。

采用无限远光学系统，提供清晰成像；超长工作距离聚光系统达70mm，支持高培养皿观察；紧凑稳定主体设计，有效防振。

采用无限远光学系统及模块化设计，配置无应力长工作距离平场物镜，微动格值2μm，旋转载物台带360°刻度，支持偏光观察装置灵活移入移出光路。

采用无限远光学系统确保优良成像质量，70mm长工作距离聚光镜支持高培养皿观察，粗微动同轴调焦系统微动格值2μm实现精准对焦。

采用无限远光学系统，配置长工作距离物镜如10X0.25工作距离4.3mm，旋转摆入摆出式聚光系统可对高培养皿进行无沾染观察，模块化荧光系统便于调整。

采用无限远光学系统，工作距离达70mm，支持相衬观察和多种培养皿适配，紧凑稳定的主体设计满足防振要求，提供清晰的显微成像效果。

采用无限远光学系统与模块化功能设计，可实现偏光与暗场观察；粗微动同轴调焦系统微动格值2μm，导柱升降装置适应不同厚度工件检测需求。

采用无限远光学系统，配备长工作距离聚光镜和工作距离55mm，旋转摆入摆出式聚光系统可对高培养皿进行无沾染观察，紧凑高刚性主体满足防振要求。

采用无限远光学系统提高成像质量，工作距离长达20mm，支持多种观察方法，放大倍数40X-1000X，满足不同实验需求。

采用无限远光学系统，配备相衬聚光镜和可变光栏，放大倍数40X-1600X，支持相衬物镜和明场观察，可扩展荧光等辅助装置。

采用无限远光学系统，配置无应力长工作距离平场物镜，微动格值2μm，旋转载物台360°可调，支持偏光观察与显微摄影。

配备UIS无限远光学系统，支持相衬观察和暗视场功能，放大倍数40X-1600X，采用6V/20W卤素灯柯勒照明，可扩展荧光和垂直照明装置。

采用无限远光学系统，配备40X-1000X放大范围和N.A.1.25阿贝聚光镜，支持数字化观察和多种辅助设备扩展。

采用无限远光学系统，支持40X-1600X放大范围，配备阿贝聚光镜和同轴调焦机构，可实现高分辨率实时观察和数字存储功能。

采用无限远光学系统，配备5X-50X明暗场物镜，工作距离2.5-9.7mm，具备防霉设计和机械移动载物台，支持偏光观察和摄像功能。