仪器商品分类

    卧式干法球磨机

    卧式干法球磨机通过滚筒旋转带动研磨介质对物料进行撞击研磨,实现粉末细化与混合。适用于涂料、塑料等行业的干式粉体加工,能均匀分散颜料并控制颗粒细度。
    仪器选型
    选择时考虑物料硬度与所需细度匹配滚筒转速,按产能需求确定筒体容积,根据粉尘防爆要求选用密闭结构,对比不同材质衬板与研磨球的耐磨性及污染程度。

    术语

    标准

    检测仪器

    具备10L处理量和0.1μm出料精度,采用四工位设计和580rpm转速,支持干湿磨及真空研磨,配置600CFM散热系统和多种材质球磨罐可选,研磨一致性良好。

    ¥ 15655.00

    最大进料尺寸2mm,出料粒度最小0.1um,支持干磨湿磨真空研磨等多种方式,配置多种材质球磨罐,可控制转速和时间保证研磨重复性。

    ¥ 43836.00

    采用360度翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量80L,最小出料粒度0.1μm,支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式,配置多种材质球磨罐适应不同样品。

    ¥ 89291.00

    具备8L处理量和0.1μm出料粒度,采用四工位设计和580rpm转速,支持干磨、湿磨及真空研磨,配置600CFM散热系统和多种球磨罐材质选择。

    ¥ 14745.00

    采用360°翻滚研磨方式,球磨罐转速达1100rpm,出料粒度最小0.1μm,支持干湿磨及多种材质罐体,研磨均匀高效。

    ¥ 13382.00

    采用行星式运动原理,研磨时间仅需15-20分钟,出料粒度达0.1微米,支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式,配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。

    ¥ 9291.00

    采用360°翻滚结构结合行星盘旋转,最大处理量16L,支持干磨湿磨真空研磨,可达到0.1μm出料粒度,具备多种球磨罐材质和研磨模式选择。

    ¥ 35473.00

    总研磨容积100L,最大可配置4个25L球磨罐;具备干磨、湿磨、真空磨等多种研磨方式;采用行星式运动原理,磨球高速碰撞摩擦物料;核心部件选用优质变频器和电动机,性能稳定耐用。

    ¥ 72927.00

    具备12L最大处理量和四工位设计,支持干磨、湿磨及真空研磨多种方式,最小出料粒度达0.1μm,采用变频器与电动机驱动,确保研磨一致性和高效散热。

    ¥ 16109.00

    采用行星式运动原理,研磨出料粒度可达0.1μm,支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式,具备四种工位和800rpm转速,操作安全稳定。

    ¥ 11109.00

    采用四工位设计,最大处理量达80L,出料粒度最小0.1μm,支持干磨、湿磨、真空等多种研磨方式,组合式结构便于拆装维护,配置散热系统保证稳定运行。

    ¥ 68382.00

    采用360°翻滚结构结合行星盘和球磨罐整体运动,球磨罐转速达850rpm,最小出料粒度可达0.1μm,支持干磨、湿磨等多种研磨方式,并具备可调速翻滚和间歇运行功能。

    ¥ 14291.00

    采用行星式运动原理,研磨时间仅需15-20分钟,出料粒度达0.1微米;支持干磨、湿磨、真空磨等多种方式,配备四工位设计,转速800rpm,适用各类样品特性。

    ¥ 8836.00

    采用核心降噪技术降低运转噪音,行星盘与球磨罐转速比1:2产生强大粉碎力,最大处理量6000ml且出料细度达0.1μm,支持干湿磨等多种研磨方式。

    ¥ 11564.00

    设备采用组合式结构便于维护,配置200CFM散热系统和低重心设计确保运行稳定。最大处理量60L,最小出料粒度0.1μm,支持四种球磨罐工位和多种研磨模式。

    ¥ 63836.00

    应用知识

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    涂膜机通过供料、涂布、干燥和收卷等步骤,将胶黏剂均匀涂覆在背衬材料上,形成稳定的胶层。
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    口腔溶解膜通过涂膜机制备,先将含成膜材料的液体均匀涂在基材上,再经干燥去除溶剂形成固态薄膜。
    湿膜制备器涂布色漆规定厚度的湿膜
    湿膜制备器是实验室工具,用于在平整底材上刮涂出色漆的预定厚度湿膜,为后续干膜性能测试提供基础。