仪器商品分类

    真空旋涂膜机

    真空旋涂膜机通过真空吸附固定基材,电机带动基材旋转,离心力使滴加的涂料均匀铺展成膜。用于实验室制备纳米薄膜、光刻胶涂层等,适用于半导体、光伏基材表面处理。
    仪器选型
    选择时考虑基材尺寸匹配卡盘规格,转速范围覆盖100-8000rpm,真空度需达0.1MPa以下。关注匀胶厚度重复性误差小于3%,配备防溅盖和溶剂回收装置。需适配现有真空泵接口。

    术语

    检测仪器

    真空吸附面积达300*400mm,配备150W真空泵,孔径0.8mm确保均匀吸附,提升涂布精度和稳定性。

    ¥ 3500.00

    采用1mm真空孔径与18mm孔距设计,配备176个吸附孔,确保底材平整固定,配合150W真空泵实现稳定吸附效果。

    ¥ 3600.00

    匀胶时间达3000秒,转速范围100至10000rpm,加速度100-10000rpm/s,支持真空吸附和电磁阀控制气路,适合流水线工艺。

    ¥ 9400.00

    采用PTFE泵头材料和涂层膜片,适用于强腐蚀性气体,抽速20L/min,极限真空度3~8mbar,具备卸压和清洗功能,气密性良好且噪音低于58dB。

    ¥ 9330.00

    匀胶时间达3000秒,转速范围100-10000rpm,加速度100-10000rpm/s,支持多段程序控制,真空吸附确保基片稳定,适合流水线工艺。

    ¥ 8800.00

    采用聚四氟腔体提供优良耐腐蚀性,支持最高200℃加热和8英寸基片处理,配备真空传感器确保可靠吸片,加速度范围100~5000rpm/s实现精确涂覆控制。

    ¥ 34000.00

    采用PTFE泵头材料和PTFE涂层膜片,适用于强腐蚀性气体和蒸汽,抽速达40L/min,极限真空度3~8mbar,具备卸压和清洗功能,噪音低于58dB。

    ¥ 10610.00

    匀胶时间0-240秒可调,转速范围100-7000rpm,四段速度控制器确保涂覆均匀性,电磁阀控制气路适合流水线工艺,电机转矩大运转平稳。

    ¥ 6600.00

    采用可调式刮刀涂布,涂布厚度范围0~10mm可调,涂布速率5~200mm/s,具有底板加热和真空吸附功能,提高涂膜重现性和操作便捷性。

    ¥ 68000.00

    配备加热真空床,温度可达100℃,涂布速率范围0.1~500mm/s,行程415mm,支持多种涂膜工具,智能界面简化操作。

    ¥ 136609.00

    温度均匀分布,范围从环境温度至125℃,精度达0.1℃,兼容常见涂布器,支持真空吸附固定样品,功耗450W。

    ¥ 37322.00

    采用四个不锈钢刀刃,测量范围2-200μm,配备LED显徽镜和独特旋转切割系统,可精确测量涂层厚度并评估基材缺陷。

    ¥ 1378.00

    长方形真空室提高空间利用率,真空度达133Pa,配备双层钢化玻璃门便于观察,支持程序控制加热和真空保持时间,提升处理一致性。

    ¥ 17760.00

    采用聚四氟乙烯材料,耐腐蚀性强,最大流量20L/min,极限真空度15~20mbar,无污染免维护,低噪音运行稳定。

    ¥ 4610.00

    匀胶速度100~7000rpm可调,时间分多段无级调节,电磁阀控制气路适合流水线工艺,电机转矩大运转平稳,真空吸附确保基片稳定。

    ¥ 6800.00

    应用知识