仪器商品分类

    半导体旋涂仪

    半导体旋涂仪通过高速旋转基片,利用离心力使涂覆液体均匀铺展并形成薄膜。该设备用于在硅片等基材上制备光刻胶、绝缘层等薄膜涂层,应用于微电子制造和半导体工艺中薄膜沉积步骤。
    仪器选型
    选择半导体旋涂仪需考虑基片尺寸兼容性、转速范围与稳定性、程序控制精度、材料耐受性、涂层均匀度要求及设备维护成本。根据具体工艺需求匹配相应参数配置,确保与现有产线流程协调运作。

    术语

    标准

    检测仪器

    匀胶机采用触摸显示屏控制,加速度范围100~4000rpm/s,可通过A/K选择自动修正转速,电机转矩大且运转平稳,适合流水线工艺。

    ¥ 15000.00

    匀胶时间达3000秒,转速范围100至10000rpm,加速度100-10000rpm/s,支持真空吸附和电磁阀控制气路,适合流水线工艺。

    ¥ 9400.00

    匀胶时间达3000秒,转速范围100-10000rpm,加速度100-10000rpm/s,采用电磁阀控制气路,适合流水线工艺,电机转矩大,运转平稳。

    ¥ 7999.00

    采用半导体控温技术实现±0.1℃精度,SC4转子仅需2-16ml样品量即可完成精确粘度测量,支持无极变速和自动升降系统操作便捷。

    ¥ 35990.00

    匀胶时间达3000秒,转速范围100-10000rpm,加速度100-10000rpm/s,支持多段程序控制,真空吸附确保基片稳定,适合流水线工艺。

    ¥ 8800.00

    匀胶效率高,支持1-5段程序控制,每段时间3000秒,转速范围100-10000rpm,加速度100-10000rpm/s,电磁阀控制气路适合流水线工艺。

    ¥ 8600.00

    采用四个不锈钢刀刃,测量范围2-200μm,配备LED显徽镜和独特旋转切割系统,可精确测量涂层厚度并评估基材缺陷。

    ¥ 1378.00

    匀胶时间0-240秒可调,转速范围100-7000rpm,四段速度控制器确保涂覆均匀性,电磁阀控制气路适合流水线工艺,电机转矩大运转平稳。

    ¥ 6600.00

    支持12组程序控制,匀胶时间达3000秒,转速范围100~4000rpm,配备真空吸附系统确保基片稳定,多段速度和时间无级可调,提升涂覆均匀性和工艺可控性。

    ¥ 18000.00

    支持720°正反双向旋转,彻底解决单向混合不充分问题;全自动智能夹紧系统依据桶身尺寸精准施力;公转速度100-200r/min,自转速度200-400r/min,确保混合均匀高效。

    ¥ 15800.00

    集成粘度测量与温度控制功能,采用半导体控温技术实现±0.1℃精度,样品量仅需2-16ml,电动升降系统确保精准定位,支持无极变速和流变曲线编程。

    ¥ 35990.00

    采用半导体制冷技术实现RT+5~100℃控温范围,控温精度≤±0.5℃,具备5组编程功能和模块温度均匀性≤±0.3℃,紧凑设计支持多种模块更换。

    ¥ 4550.00

    采用半导体制冷技术,控温精度达±0.5℃,降温时间仅需10分钟从25℃至4℃,具备自动故障检测和超温保护功能,支持多种离心管模块选配。

    ¥ 3250.00

    采用半导体传感器技术,检测灵敏度可调至50PPM甲烷,响应时间≤1秒,预热时间低于110秒,工作时长达9小时,便携设计仅重220克。

    采用半导体传感器技术,检测灵敏度可调至50PPM甲烷,响应时间≤1秒,预热时间低于110秒,支持9小时连续工作,具备LED灯报警和低电指示功能。

    ¥ 159.00

    应用知识